1. <tr id="vcdhi"><strong id="vcdhi"></strong></tr>

    <td id="vcdhi"><ruby id="vcdhi"></ruby></td>

    <track id="vcdhi"><ruby id="vcdhi"><menu id="vcdhi"></menu></ruby></track>

    <acronym id="vcdhi"><label id="vcdhi"><address id="vcdhi"></address></label></acronym>

  2. <td id="vcdhi"></td>
  3. <track id="vcdhi"></track>
    <pre id="vcdhi"><label id="vcdhi"></label></pre>

    用戶名: 密碼: 驗證碼:

    愛發科和美國JDSU聯合開發出低缺陷的光學薄膜濺鍍設備

    摘要: 【日經BP社報道】日本愛發科(ULVAC)和美國JDS Uniphase公司(JDSU)開發出了能夠高效生產缺陷僅為原來1/10的光學薄膜的濺鍍設備“ULDi


        【日經BP社報道】日本愛發科(ULVAC)和美國JDS Uniphase公司(JDSU)開發出了能夠高效生產缺陷僅為原來1/10的光學薄膜的濺鍍設備“ULDiS-200UCP”。該設備采用JDSU的專利技術“Meta-mode”,由愛發科開發。愛發科將以歐美以外的亞洲為中心進行銷售。

     

    為了以高畫質顯示高清電視及數字電影等高精細映像,要求投影機和背投電視等光學系統元器件必須具備很高的精度。此次的設備不僅適用于投影燈的反射鏡片、全反射鏡片以及濾光片等表面光學薄膜以及防反光薄膜的形成,還可用于MEMS光學元件的反射面以及封裝玻璃表面的加工處理。有了該設備,過去依靠JDSU公司進行成膜的成品廠商將可自行加工。

     

    此次開發的設備與2004年愛發科根據與JDSU簽訂的授權合同開發的“ULDiS-903CHL”相比,具有如下特點:(1)底板尺寸支持更大的面積,現有設備為對角長度75mm,而新設備則為直徑200mm;(2)薄膜缺陷數由現有設備的每平厘米數個減小至0.1個;(3)成膜率得到了提高?,F有設備使用硅時成膜率為0.6nm/秒,用鈮則為0.3nm/秒,而新設備均為1nm/秒。

     

    為了形成Si氧化膜等光學薄膜,“Meta-mode”技術通過連續完成先進行成膜速度很快的金屬膜濺鍍再進行氧化的過程,具備很高的生產效率?,F有設備由于要在設備內部轉動裝有底板的工作臺,因此無法減少污染導致的缺陷。而新設備不用移動底板即可進行成膜,因此可減少缺陷的產生。另外,作為現有設備來說,在膜與底板之間的界面上產生缺陷后還會影響到光學性能。而使用新設備,幾乎看不到這個界面。

     

    該設備售價2億日元~22000萬日元,訂貨后57個月即可交貨?,F有設備由于能夠在更低的溫度下進行濺鍍處理,因此將面向塑料濺鍍等用途繼續銷售。(記者:大西 順雄)

     

    【加入收藏夾】  【推薦給好友】 
    免責聲明:凡本網注明“訊石光通訊咨詢網”的所有作品,版權均屬于光通訊咨詢網,未經本網授權不得轉載、摘編或利用其它方式使用上述作品。 已經本網授權使用作品的,應在授權范圍內使用,反上述聲明者,本網將追究其相關法律責任。
    ※我們誠邀媒體同行合作! 聯系方式:訊石光通訊咨詢網新聞中心 電話:0755-82960080-188   debison
    亚洲国产成人手机在线_A级裸毛免费国产黄片_国产精品自在自线免费观看_日本乱亲伦视频中文字幕
    1. <tr id="vcdhi"><strong id="vcdhi"></strong></tr>

      <td id="vcdhi"><ruby id="vcdhi"></ruby></td>

      <track id="vcdhi"><ruby id="vcdhi"><menu id="vcdhi"></menu></ruby></track>

      <acronym id="vcdhi"><label id="vcdhi"><address id="vcdhi"></address></label></acronym>

    2. <td id="vcdhi"></td>
    3. <track id="vcdhi"></track>
      <pre id="vcdhi"><label id="vcdhi"></label></pre>